| تعداد نشریات | 60 |
| تعداد شماره‌ها | 2,180 |
| تعداد مقالات | 17,660 |
| تعداد مشاهده مقاله | 53,835,488 |
| تعداد دریافت فایل اصل مقاله | 28,346,332 |
توسعه یک مدل دو هدفه برای مسئله حداکثر پوشش با محدودیت پارامترهای صف | ||
| مطالعات مدیریت صنعتی | ||
| مقاله 1، دوره 8، شماره 18، مهر 1389، صفحه 1-13 اصل مقاله (2.44 M) | ||
| نوع مقاله: مقاله پژوهشی | ||
| نویسندگان | ||
| مهدی سیف برقی1؛ راضیه فرقانی2؛ ظریفه راثی2 | ||
| 1استادیار دانشگاه الزهرا دانشکده فنی و مهندسی | ||
| 2دانشجوی کارشناسی ارشد مهندسی صنایع دانشگاه الزهرا دانشکده فنی و مهندسی | ||
| چکیده | ||
| مسئله مکان یابی حداکثر پوشش سعی در حداکثر نمودن پوشش جمعیتی می کند که در یک حداکثر فاصله یا زمان مشخص از یک تجهیز قرار دارند. توسعه های بسیاری جهت بهبود کاربردهای این مسئله ارائه شده است که یکی از آنها ترکیب این مسئله با مدلهای صف است. به عنوان مثال مکان یابی محل تعدادی خدمت دهنده با هدف حداکثر نمودن پوشش مشتریان و محدودیت در طول یا زمان انتظار مشتریان در صف. در این مقاله مدل ارائه شده توسط کورآ و لورنا که به صورت یک مسئله حداکثر پوشش با محدودیت شاخصهای صف است توسعه داده می شود. بگونه ای که علاوه بر تابع هدف حداکثر پوشش، هدف حداقل نمودن فواصل خدمت دهنده ها تا مشتریان نیز در نظر گرفته می شود. بدین منظور بر خلاف مدل مقاله اصلی محدودیت خاصی در تخصیص مشتریان به گره های خدمت دهی ایجاد نگردیده و این خود مدل خواهد بود که نحوه تخصیص را مشخص می کند. مدل توسعه داده شده توسط الگوریتم ژنتیک و نرم افزار CPLEX حل و نتایج حاصل نشان دهنده عملکرد مطلوب الگوریتم توسعه داده شده می باشد. | ||
| کلیدواژه‌ها | ||
| مکان یابی؛ حداکثر پوشش؛ صف؛ الگوریتم ژنتیک؛ خدمت دهنده | ||
|
آمار تعداد مشاهده مقاله: 1,691 تعداد دریافت فایل اصل مقاله: 1,285 |
||